HPD-2400生產型設備 次大氣輝光放電處理機

用途：

1. 酶標板、細菌計數培養皿、細胞培養皿、組織培養皿的親水處理。經過等離子體處理后細菌培養皿表面由疏水變為親水,并獲得支持細胞黏附鋪展的能力.并適用于細胞培養。等離子表面處理的效果可以簡單地用滴水來驗證，處理過的樣品表面完全被水潤濕。

2. 生物芯片、人造血管、血管支架的處理

3. 等離子清洗、刻蝕、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場合。通過其處理，能夠改善材料的潤濕能力，使多種材料能夠進行涂覆、鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除有機污染物、油污或油脂。